Tantalum Sputtering Στόχος

Το ταντάλιο (Ta) είναι ένα πυρίμαχο μέταλλο που είναι κρίσιμο για τις αρχιτεκτονικές μικροτσίπ στη βιομηχανία ημιαγωγών υψηλής ανάπτυξης. Οι στόχοι τανταλίου υψηλής καθαρότητας χρησιμοποιούνται για την εκτόξευση μικροσκοπικών λεπτών στρωμάτων τανταλίου σε γκοφρέτες πυριτίου, επιτρέποντας την κατασκευή λογικών τσιπ ημιαγωγών επόμενης γενιάς με προηγμένες αρχιτεκτονικές κόμβων και υψηλότερη απόδοση.

Το ταντάλιο ταξινομείται ως μέταλλο μετάπτωσης στον περιοδικό πίνακα και θεωρείται ένα από τα πιο ανθεκτικά στη διάβρωση πυρίμαχα μέταλλα. Το ταντάλιο έχει σημείο τήξης 3.017 μοίρες, πυκνότητα 16,6 g/cc και τάση ατμών 10-4 Torr στους 2.590 βαθμούς. Έχει μεταλλικό γκριζωπό-μπλε χρώμα και χημικά μοιάζει εκπληκτικά με το νιόβιο. Λόγω της μη τοξικής φύσης του, χρησιμοποιείται κυρίως στην κατασκευή χειρουργικών εμφυτευμάτων. Χρησιμοποιείται επίσης ως πυκνωτής στα ηλεκτρονικά και μπορεί να γίνει κράμα με άλλα μέταλλα για πρόσθετη αντοχή και ανθεκτικότητα. Το ταντάλιο, τα κράματά του και οι ενώσεις του εξατμίζονται υπό κενό για να κατασκευαστούν ημιαγωγοί, οπτικές επιστρώσεις, μαγνητικά μέσα αποθήκευσης και επιστρώσεις ανθεκτικές στη φθορά και στη διάβρωση.

Υψηλής ποιότητας μεταλλικά προϊόντα

Προδιαγραφές Tantalum (Ta).

Η εταιρεία ιδρύθηκε το 2008 και αναπτύχθηκε με την πάροδο των ετών για να γίνει κορυφαίος κατασκευαστής και προμηθευτής μεταλλικών προϊόντων που εξυπηρετούν ένα ευρύ φάσμα βιομηχανιών. Η εταιρεία επενδύει συνεχώς στην έρευνα και ανάπτυξη για τη βελτίωση της ποιότητας και της αντοχής των προϊόντων της. Η εταιρεία δίνει μεγάλη έμφαση στην ικανοποίηση των πελατών και είναι γνωστή για την παροχή προϊόντων υψηλής ποιότητας και την άριστη εξυπηρέτηση των πελατών. Σήμερα, η εταιρεία έχει παγκόσμια παρουσία και εξυπηρετεί πελάτες σε χώρες σε όλο τον κόσμο.

Δημοφιλείς Ετικέτες: στόχος sputtering τανταλίου, Κίνα κατασκευαστές στόχων sputtering τανταλίου, προμηθευτές, εργοστάσιο